Физико-химические основы очистки металлов и полупроводниковых материалов

М.: Металлургия, 1973. - 224 с.Изложены физико-химические основы важнейших процессов, применяемых для получения чистых металлов и полупроводниковых материалов (сорбция, экстракция, кристаллизационные методы очистки, дистилляция и ректификация, электрохимические методы, очистка металлов от газов и др.).
Предназначена в качестве учебного пособия для студентов вузов, специализирующихся в области -получения материалов электронной техники. Может быть полезна для научных работников и инженеров, занимающихся очисткой веществ.Чистые металлы и материалы в современной технике
Чистота металлов и полупроводниковых материалов. Характеристика процессов разделения и очистки
Сорбция
Жидкостная экстракция
Кристаллизация из растворов
Кристаллизация из расплавов
Теория разделения веществ путем испарения и конденсации (разгонки)
Сублимация и дистилляция
Ректификация
Перегонка с помощью химических транспортных реакций
Теория электрохимического разделения и очистки металлов
Электролиз и анодное растворение
Избирательное осаждение, окисление и восстановление
Разделение в электрических, гравитационных и магнитных полях
Очистка металлов от газов
Электроперенос как средство глубокой очистки металлов от примесей600 dpi, ч/б, OCR-слой (не редактированный), оглавление.